半导体超纯水设备

一、纯净度要求

1. 电阻率：半导体用水的电阻率要求极高，通常大于18.2兆欧（MΩ·cm），在25摄氏度下测量。这意味着水中几乎不含离子，是高度纯净的水。

2. 总有机碳（TOC）：TOC含量要求小于1至10ppb（部分要求小于50ppt），以确保水中有机物含量极低，避免对半导体生产造成不良影响。

3. 溶解氧（DO）：DO含量要求小于1至10ppb，以防止溶解氧对半导体材料造成氧化，影响产品质量。

4. 微粒子：0.05微米颗粒含量应小于200个/升，以确保水中无微小颗粒污染半导体材料。

5. 离子含量：大部分离子含量要求小于10至50ppt，以保证水的高度纯净。

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二、微生物含量

       半导体用水应严格控制微生物含量，以防止微生物对生产过程和产品质量造成影响。通常要求无细菌检出。

三、其他要求

1. 稳定性：半导体水系统应保持稳定的压力和流量，以确保生产过程的稳定性和产品质量的一致性。

2. 温度和pH值：水的温度和pH值应控制在一定范围内，以保证生产过程和产品质量的稳定性。

3. 气体含量：水中的气体含量，如溶解性二氧化碳、氮气等，也应控制在一定范围内，以避免对生产过程和产品性能产生不良影响。

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四、制备工艺

半导体用水的制备通常包括预处理、主处理和精化三个阶段。预处理阶段包括过滤、软化、去氯、PH调节等步骤；主处理阶段使用反渗透（RO）、离子交换（IX）和Electrodeionization（EDI）等技术进行深度去离子化；精化阶段则进行脱气、微滤、超滤、紫外线照射等，以使水质达到标准。

五、设备要求

半导体用水的制备设备应选用高质量材料，如PVDF、PTFE、PFA等特别稳定的高分子合成材料，以防止杂质溶出造成二次污染。同时，设备应定期进行维护和保养，以保证其正常运行和水质的稳定性。