项目案例：山东某半导体有限公司打造的高品质超纯水生产系统
一、项目背景
在半导体制造行业，超纯水是不可或缺的关键原料之一，其质量直接关系到芯片的生产效率和最终产品的性能。山东某半导体有限公司，作为国内领先的半导体生产商，对超纯水的品质有着极为严格的要求。为了满足其碳化硅晶圆生产过程中的高标准需求，公司决定投资建设一套先进的超纯水生产设备。经过多方比较与选择，最终确定采用本方案提供的超纯水处理系统。
二、项目概况
1. 客户名称：山东某半导体有限公司
2. 处理类型：碳化硅晶圆生产用超纯水设备
3. 处理要求：
电阻率：达到18.2MΩ·cm，确保水的纯净度极高，满足半导体生产的严苛标准。
TOC（总有机碳）：低于4ppb，减少有机物对晶圆生产的影响。
颗粒数：大于0.1μm的颗粒数小于0.1个/ML，保证水质的清洁度。
温度：控制在20.9-23.1℃之间，维持稳定的生产环境。
SiO2（二氧化硅）：低于3ppb，避免对晶圆表面造成污染。
DO（溶解氧）：低于8ppb，减少氧化反应对半导体材料的影响。
细菌：控制在1cfu/ml以下，确保无菌生产环境。
金属离子：低于20ppt，防止金属污染影响产品质量。
4. 处理水量：45m³/h，满足大规模生产需求。
三、处理工艺与技术亮点（采用均为国际一线品牌)
本项目采用了一套高效、稳定的超纯水处理工艺，具体包括：
超滤（UF）：作为预处理步骤，有效去除原水中的大颗粒杂质和胶体，为后续处理奠定基础。
双级反渗透（RO）：通过两级反渗透膜的过滤，大幅去除水中的盐分、有机物、细菌等，提高水的纯净度。
电去离子（EDI）：进一步去除水中的离子，使水质接近理论纯水，满足高电阻率要求。
双级TOC去除：采用先进的氧化和吸附技术，有效降低水中的总有机碳含量。
脱气膜：去除水中的溶解气体，特别是氧气，减少对半导体材料的潜在危害。
双级抛光：通过精细过滤，进一步降低水中的微粒和胶体含量，提升水质纯净度。
除硼过滤器：特别设计用于去除硼元素，满足特定工艺对硼含量的严格控制。
终端超滤：作为最后一道屏障，确保水质完全符合生产要求。
四、设备与材料选择
管道材质：全部采用PVDF（聚偏氟乙烯）材质，具有优异的耐腐蚀性、耐高温性和低渗透性，确保水质不受二次污染。
无尘棚或洁净车间施工：整个超纯水生产系统位于无尘棚内，严格控制环境洁净度，避免外部污染对水质的影响。
五、项目意义与成效
本项目的成功实施，为山东某半导体有限公司提供了稳定、可靠、高品质的超纯水供应，显著提升了其碳化硅晶圆的生产质量和效率。同时，该超纯水处理系统的自动化程度高，运行维护简便，有效降低了企业的运营成本。此外，项目的成功也进一步证明了本方案在半导体行业超纯水处理领域的专业能力和技术实力，为未来的合作奠定了坚实的基础。
六、案例图片
七、水质检测报告
